光刻胶用聚合物

细胞学®

  • 用于尖端半导体电路制造的 ArF 和 EUV 抗蚀剂的基础聚合物。
  • 与丙烯酸/甲基丙烯酸和羟基苯乙烯相容。
  • 可以精确控制聚合物结构。
  • 细胞学®是我们集团的注册商标。
产品示例
各种单体的共聚物
Cellography® 半导体化学式